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篤摯儀器(上海)有限公司
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Couloscope CMS2 STEP庫(kù)侖測(cè)厚儀操作步驟
點(diǎn)擊次數(shù):1864 更新時(shí)間:2020-09-14 打印本頁(yè)面 返回

Couloscope CMS2 STEP庫(kù)侖測(cè)厚儀操作步驟

 COULOSCOPE MMS 測(cè)試儀器是一個(gè)功能非常強(qiáng)大而操作比較簡(jiǎn)便的儀器。使用時(shí)的一個(gè)原則是
多看顯示屏上的提示,根據(jù)它的提示一步一步地去做,這往往事半功倍;其二,要注意軟鍵功能的
變化,在不同的程序中有不同的功能;其三,許多功能都是由 MENU 菜單來(lái)開(kāi)啟,隨后皆有提示,可
按部就班的進(jìn)行。 
一、測(cè)量界面說(shuō)明 
屏幕右上角顯示當(dāng)前時(shí)間,下面依次顯示當(dāng)前應(yīng)用程式的信息:例如可測(cè)厚度 thmin=
0.30um,電解速度 Deplating rate 2.00um/min,修正系數(shù) Corr.fact:1.00。 
中間左半部分是當(dāng)前應(yīng)用程式的形象圖解說(shuō)明,右半部分顯示測(cè)量數(shù)值。 
下面一行顯示當(dāng)前應(yīng)用程式的編號(hào)和名稱,例如 Appl20:APPL.NO.20,數(shù)據(jù)總數(shù) N_tot=15。 
 右邊為相應(yīng)軟鍵的功能,按 BLOCK RES.可以顯示單個(gè)數(shù)據(jù)組的統(tǒng)計(jì)值;按 EVALUATE 可以查看
單個(gè)或多個(gè)數(shù)據(jù)組的統(tǒng)計(jì)值以及 SPC 圖、Σ圖;用上下箭頭可以翻看測(cè)量數(shù)據(jù)。 
二、基本操作 
1.設(shè)立應(yīng)用程式例如 0.5umCr/4umNi/10umCu/Fe: 
 MENU→在應(yīng)用程式欄中選擇新建應(yīng)用程式(0)→挑一個(gè)空的序號(hào),例如 5 即輸入數(shù)字 5→ENTER
→用上下箭頭選擇鍍層數(shù) Select number of coatings,例如 3 coatings→確認(rèn)→選擇測(cè)量頂
層鍍層 Cr/Ni 的應(yīng)用程式和電解速度(電解速度根據(jù)實(shí)際鍍層厚度選擇,一般電解時(shí)間控制在 1
分鐘左右),按 PAGE 軟鍵可以翻頁(yè),依據(jù)本例選 16 即輸入數(shù)字 16→確認(rèn)→選擇墊圈 gasket 的
尺寸,例如ф1.5mm(yellow)→確認(rèn)→選擇測(cè)量中間層 Ni/Cu 的應(yīng)用程式 43,輸入數(shù)字 43→
確認(rèn)→選擇墊圈 gasket 的尺寸,注意:同一個(gè)應(yīng)用程式,只能用一種墊圈尺寸,所以還選ф1.5mm
(yellow)→確認(rèn)→選擇測(cè)量里層鍍層 Cu/Fe 的應(yīng)用程式 33,輸入數(shù)字 33→確認(rèn)→選擇墊圈
gasket 的尺寸ф1.5mm(yellow)→確認(rèn),這時(shí)可以看到剛才建立應(yīng)用程式的信息,請(qǐng)核對(duì)是否
正確,按 ENTER 鍵可以跳到下一個(gè)項(xiàng)目,按數(shù)字 2,8 鍵可以切換當(dāng)前選項(xiàng)→確認(rèn)→這時(shí)可以更
改應(yīng)用程式的名稱,按數(shù)字 2,4,6,8 鍵可以選擇所需字符,按 ENTER CHAR 軟鍵可以輸入選
定字符→CONFIRM,回到測(cè)量狀態(tài),應(yīng)用程式已建立。

2.校準(zhǔn):CAL 
CAL→修改系數(shù)(軟鍵)→將標(biāo)準(zhǔn)片的標(biāo)稱值輸入小框內(nèi)→確認(rèn)→按 START 鍵開(kāi)始測(cè)量→確認(rèn)→
校準(zhǔn)完成,返回測(cè)量狀態(tài)。先把修正系數(shù) Corr.factor 重置為 1.00。
3.應(yīng)用程式:SELECT APPL 
因?yàn)樵搩x器可測(cè)量各種鍍層體系,故針對(duì)要測(cè)量的鍍層,可使用 APPL.No.鍵來(lái)挑選當(dāng)前要使用
的應(yīng)用程式。 
SELECT APPL→選某個(gè)要用的應(yīng)用程式的序號(hào)→ENTER→進(jìn)入該應(yīng)用程式的測(cè)量界面。 
4. 修改應(yīng)用程式:MODIFY APPL 
 測(cè)量時(shí),如果儀器停不下來(lái)(漏液肯定停不了),可以修改突變電壓。 
 只能在修改當(dāng)前應(yīng)用測(cè)試。 
 MEUN→在應(yīng)用程式欄中選擇修改應(yīng)用程式(1)→NEW ΔU 軟鍵→CHANGE 軟鍵→輸入密碼 159,
并用 ENTER 鍵確認(rèn)→用數(shù)字鍵輸入新的突變電壓值ΔU→用 ENTER 鍵確認(rèn),移動(dòng)光標(biāo)位置,修改下一
層的突變電壓值→修改完成后用 CONFIRM 軟鍵確認(rèn),返回測(cè)量界面。
 三.通過(guò) MENU 菜單鍵進(jìn)行內(nèi)部設(shè)置的一些操作: 
應(yīng)用程式欄 
0. 新建應(yīng)用程式。 
1.修改應(yīng)用程式: 
MENU→1→ENTER 
2.刪除應(yīng)用程式內(nèi)的數(shù)據(jù): 
MENU→2→ENTER 警告:所有的數(shù)據(jù)將被刪除→DEL 軟鍵執(zhí)行刪除,ESCAPE 取消操作→返回測(cè)量
界面。 
3.復(fù)制應(yīng)用程式 
 MENU→3→出現(xiàn)已有的各個(gè) APPL→選 APPL 的序號(hào),例如“8” →8→ENTER→出現(xiàn) New Application 
Number→輸入一個(gè)空位,例如:20 →ENTER→在 20 的位置上將出現(xiàn)一個(gè)程序 8 的 COPY。 
4.刪除應(yīng)用程式: 
MENU→4→ENTER→選一個(gè)要?jiǎng)h除的程式(例如程式 6,注意,無(wú)法刪除當(dāng)前應(yīng)用程式)→6→DEL
(軟鍵)→警告→DEL(該程式 6 已被刪除)→回選擇界面,可進(jìn)行另一次的刪除。如要返回測(cè)
量狀態(tài)→MEAS OK。

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王存帆 
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