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電位差測(cè)量方法及儀器推薦
點(diǎn)擊次數(shù):6633 更新時(shí)間:2017-06-06 打印本頁(yè)面 返回

電位差,也稱作電勢(shì)差或電壓,是衡量單位電荷在靜電場(chǎng)中由于電勢(shì)不同所產(chǎn)生的能量差的物理量。電位差的單位制為伏特(V,簡(jiǎn)稱伏),常用的單位還有毫伏(mV)、微伏(μV)、千伏(kV)等。此概念與水位高低所造成的“水壓”相似。需要指出的是,“電壓”一詞一般只用于電路當(dāng)中,“電勢(shì)差”和“電位差”則普遍應(yīng)用于一切電現(xiàn)象當(dāng)中。

電位差測(cè)試方法

  1、低壓電壓的測(cè)量

  在低壓線路中,欲測(cè)某兩點(diǎn)間的電壓,只要把電壓表的兩端直接接到被測(cè)的兩點(diǎn)即可。這種方法叫并聯(lián)法。即電壓表是并聯(lián)在線路中。如下圖所示。

  2、測(cè)量時(shí)應(yīng)注意的事項(xiàng):

  首先要估計(jì)被測(cè)電壓值的范圍,選好檔位,以免損壞儀表。一般以被測(cè)量處于zui大量程的2/3左右處較為準(zhǔn)確。測(cè)量直流電壓應(yīng)注意極性。

  測(cè)量電壓是帶電進(jìn)行的,因此要注意安全。

 

儀器推薦:

德國(guó)FISCHER生產(chǎn)的Couloscope CMS2 STEP。這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面 積保持不變,鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。非常適合測(cè)量 以簡(jiǎn)單的標(biāo)準(zhǔn)符合方式,單個(gè)涂層厚度和多個(gè)鎳涂層的電位差 

Couloscope CMS2 STEP測(cè)厚儀測(cè)量版本

4種不同類型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類的被測(cè)物體。

測(cè)量臺(tái)V18有1個(gè)新的測(cè)量槽設(shè)計(jì)。由于在每次測(cè)量后有一個(gè)泵會(huì)自動(dòng)地排出電解液至儲(chǔ)液箱內(nèi),也就不再需要手動(dòng)清空測(cè)量槽了,一次注滿測(cè)量槽就可以多次測(cè)量。

測(cè)量臺(tái)V24允許靈活定位小工件。

測(cè)量臺(tái)V26主要為簡(jiǎn)單和平面形狀的物體而設(shè)計(jì)。

測(cè)量臺(tái)V27主要為在線材上測(cè)量而設(shè)計(jì)。

吸引人的設(shè)計(jì),大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。

操作簡(jiǎn)單,菜單指引的操作提示。

電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。

大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層,包括測(cè)量線材。

COULOSCOPE CMS STEP 

在電鍍行業(yè)中,對(duì)多層鎳鍍層中各自層的同時(shí)的厚度和電極電位的測(cè)定變成了一個(gè)越來(lái)越重要的需求。的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個(gè)鎳層?reg;間足夠的電位差導(dǎo)致了光亮鎳層優(yōu)先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個(gè)鎳層的穿透速度,并且給了基材相對(duì)于單鍍層更好的防腐保護(hù)。 

COULOSCOPE CMS STEP可以通過定位于電位-時(shí)間表中相關(guān)部分的雙指針來(lái)方便地測(cè)出鍍層厚度和電位差。這個(gè)圖表能夠外部保存或通過RS232轉(zhuǎn)換到PC電腦中。

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